杨杰对此倒是有足够的耐心，前世的时候艾斯摩尔公司也是花费了十多年时间和技术积累才推出了紫外光光刻机产品出来。

其实从2000年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时，海外很多研究机构也是在研发包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等不同的光刻技术。

其中X射线光刻技术被提出来进行研发的主要原因是因为X射线的波长极短，X射线在用于光刻时的波长通常在0.7到0.12纳米之间，它极强的穿透性决定了它在厚材料上也能定义出高分辨率的图形来。<b

《重生之大学霸》858章 寡头公司！ 正在手打中，请稍等片刻，

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